采购与招标网 ,机械电子电器 黑龙江 2024-05-23
序号 | 项目名称 | 数量/单位 | 预算价 | 项目内容 | 质保及售后服务 | 附件 |
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1 | 光刻工艺服务 | 1 | X |
1. 需按照深大提供的GDS文件进行光刻工艺服务
2.需采用无掩膜紫外光刻机进行加工
3.工艺需求参数:
a. 需采用X LED光源对样品做光刻工艺,光刻速率需≥3 mm2/min,
b.等间距线宽≤1 um,特征尺寸≤X nm:
c. 样品厚度:≥8 mm,样品尺寸:≥X mm
d. 套刻精度≤ Xnm (5mm*5mm)
4.显影服务:根据图纸文件,对提供的样品进行显影,.MIF 显影液X.X%TMAH;
5.3D检测:显微镜下的光学检测,需清晰可见提供的光刻胶的厚度、陡直度以及3D形貌。
6.以上所有测试,供应商需提供工艺相关的技术文档、设计规则文件和技术服务。
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按行业标准提供服务
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会员办理咨询:400-006-6655转1。
业务咨询:400-006-6655转1。
入会咨询:400-006-6655转1。
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